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CPV: 31000000

Deutschland – Elektrische Maschinen, Geräte, Ausstattung und Verbrauchsartikel; Beleuchtung – CMP Tool Anlage zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern

Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik

Zuschlag

Wettbewerb: 2 Angebote in 2/2 Losen (Ø 1 Angebote je Los).

Vergebene Aufträge
Gewinnermit Quellenhinweis
Struers GmbH

CMP Tool Anlage zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern

1 Angebot 14.03.2024 Quelle öffnen
GewinnerLos LOT-0000mit Quellenhinweis
Struers GmbH

CMP Tool Anlage zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern

1 Angebot 14.03.2024 Quelle öffnen
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