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CPV: 42900000

Deutschland – Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke – Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers

Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.

Zuschlag

Wettbewerb: 1 Angebot eingegangen.

Vergebene Aufträge
GewinnerLos LOT-0001mit Quellenhinweis
scia Systems GmbH

Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers

1 Angebot 1 € 10.07.2026 Quelle öffnen
OrtSachsen
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