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CPV: 31712100

Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Technische Universität München

Zuschlag

Verknüpfte Bekanntmachung über den vergebenen Auftrag. Wettbewerbsdaten liegen noch nicht vor.

Vergebene Aufträge
GewinnerLos LOT-0001mit Quellenhinweis
Veeco GmbH

Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Wettbewerb: keine Angabe 27.08.2026 Quelle öffnen
Vergabe-Intelligence

Historische Zuschlagsmuster

Ähnliche vergebene Aufträge nach Auftraggeber, CPV-Gruppe und Region.

Alle Zuschläge
Historie
9024

ähnliche Zuschläge

Gewinnerfeld
5053

zugeordnete Firmen

Mittelwert
200.000,0 €

bekannter Zuschlagswert

Breites Gewinnerfeld Wertspanne belastbar Aktives Segment

Auffällige Gewinner

Telekom Deutschland GmbH59 Zuschläge · 1 %45,2 Mio. €Regionalverkehr Oberbayern GmbH51 Zuschläge · 1 %-GlasfaserPlus GmbH38 Zuschläge · 0 %61,4 Mio. €Rosenbauer Deutschland GmbH37 Zuschläge · 0 %3,8 Mio. €Siemens Mobility GmbH31 Zuschläge · 0 %2,3 Mio. €

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Quellen (1)

ted-v3seit 27.08.2026
→
OrtBayern
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