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CPV: 31712330

Deutschland – Halbleiter – Zusatzkammer f. PVD-Sputteranlage SPUc02-01

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Zuschlag

Verknüpfte Bekanntmachung über den vergebenen Auftrag. Wettbewerbsdaten liegen noch nicht vor.

Vergebene Aufträge
Gewinnermit Quellenhinweis
Applied Materials South East Asia Pte Ltd

Zusatzkammer f. PVD-Sputteranlage SPUc02-01

Wettbewerb: keine Angabe 1.995.000 € 14.02.2025 Quelle öffnen
GewinnerLos LOT-0000mit Quellenhinweis
Applied Materials South East Asia Pte Ltd

Zusatzkammer f. PVD-Sputteranlage SPUc02-01

Wettbewerb: keine Angabe 1.995.000 € 14.02.2025 Quelle öffnen
OrtSachsen
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